等（děng）離（lí）子清洗設備的（de）基本構造：
　　根據用途的不同，可選用多種構造的等離子清洗（xǐ）設備，並可通過選用不用種類的氣（qì）體，調整裝置的基本結構大致是相同的（de），一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、點（diǎn）擊、氣體導入係統、工作傳送係統和控製係統（tǒng）等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉油泵，高頻電（diàn）源通常用13.56MHz的無線電波，設備（bèi）的（de）運行過（guò）程如下：
　　（1）被清洗的工件送入（rù）真空室並加以固定，啟動運（yùn）行裝（zhuāng）置，開始排氣，使真空室的（de）真空程度達到10Pa左右的標準真空度（dù）。一般排氣時（shí）間大約需要2min。
　　（2）向真空室引入等離子清（qīng）洗用的氣體，並使其壓力保持在100pa。根據清洗材質（zhì）的不用，可分別選用氧氣、氫氣、或氮氣等氣體。
　　（3）在真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，並通過輝光放電而發生離子化和產生等（děng）離子體（tǐ）。讓（ràng）在（zài）真空室產生的等離子體（tǐ）完全（quán）籠（lóng）罩在（zài）被處理工件，開始清洗（xǐ）作業。一般清洗處理持續幾十秒到幾分鍾。
　　（4）清洗完畢後切斷高頻電壓，並將氣體及汽化的汙垢排出，同時向真空室內鼓入氣體，並使氣（qì）壓升至一個大（dà）氣壓。